Trykkområde for vakuumovn

Partialtrykkområdet til en vakuumovn refererer til partialtrykknivåene til forskjellige restgasser innenfor totaltrykket etter vakuum. Siden et vakuummiljø ikke er helt -fritt for gass, men består av forskjellige gasser som nitrogen, oksygen, hydrogen og vanndamp, påvirker partialtrykkområdet direkte graden av oksidasjon og materialreaksjon under prosessen.

I konvensjonelle industrielle vakuum-varmebehandlingsprosesser når det totale vakuumnivået typisk 10⁻¹ Pa til 10⁻³ Pa. På dette nivået er partialtrykket til forskjellige restgasser tilsvarende lavere, med partialtrykket av vanndamp og oksygen vanligvis kontrollert på enda lavere nivåer for å redusere risikoen for oksidasjon, dekarburering. Dette trinnet er egnet for de fleste metallglødnings-, lodding- og bråkjølingsprosesser.

I krevende prosesser eller under høye vakuumforhold (som 10⁻³ Pa til 10⁻⁵ Pa), reduseres partialtrykket til restgasser ytterligere, spesielt partialtrykket av oksygen og vanndamp, som kontrolleres ved ekstremt lave nivåer, og reduserer dermed overflatereaksjoner og påvirkning av urenheter betydelig. Når det er nødvendig, kan partialtrykket justeres ved å fylle med en inertgass (som argon) for å møte prosesskravene til spesiell materialbehandling eller presisjonsvarmebehandling.